삼성전자, 2030년까지 시스템반도체 133조 투자

김종찬 기자

발행일 2019-04-25 제1면
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R&D 전문인력 1만5천명 채용도
42만명 간접 고용유발 효과 기대

삼성전자가 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야에 총 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5천명을 채용하기로 했다.

삼성전자는 24일 발표한 '반도체 비전 2030'에서 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 오는 2030년까지 연구·개발(R&D) 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 각각 투자하기로 했다고 밝혔다.

삼성전자는 이와 함께 기술경쟁력 강화를 위해 시스템 반도체 R&D 제조 전문인력 1만5천명을 채용할 계획이다.

이런 계획이 실행되면 오는 2030년까지 연평균 11조원의 R&D·시설 투자가 집행되고, 생산량이 늘어남에 따라 42만명에 달하는 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 회사 측은 기대했다.

아울러 삼성전자는 국내 팹리스(반도체 설계 전문업체)를 지원하는 등 상생협력을 통해 국가 차원의 시스템 반도체 산업 생태계 구축을 선도한다는 전략도 함께 내놨다.

국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 제품 개발 기간도 단축할 수 있도록 인터페이스 IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 설계 관련 지식재산권(IP)을 지원할 예정이다.

삼성전자는 또 효과적인 제품 개발을 위해 자체 개발한 설계 및 불량 분석 툴과 소프트웨어 등도 지원하기로 했다.

반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해 중소 팹리스 업체의 소량 제품 생산을 지원하고, 이들 업체의 개발 활동에 필수적인 '멀티 프로젝트 웨이퍼' 프로그램도 공정당 연 2~3회로 확대 운영할 계획이다.

/김종찬기자 chani@kyeongin.com

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