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삼성전자가 글로벌 시스템 반도체 시장 1위를 달성하는 '반도체 비전 2030' 목표를 위해 평택에 극자외선(EUV) 파운드리 생산라인을 구축한다.
21일 삼성전자에 따르면 이번 생산라인 구축은 지난해 4월 이재용 삼성전자 부회장이 2030년까지 133조원을 투자해 시스템 반도체 1위 자리를 차지하겠다고 밝힌 '반도체 비전 2030'의 일환이다.
올해 2월 화성사업장에 초미세 극자외선(EUV) 전용 'V1 라인'을 본격 가동한 데 이어 이번에 평택캠퍼스에도 처음으로 EUV 파운드리 라인을 신설하며 목표 달성을 위한 투자를 본격화했다. → 위치도 참조
이번 투자 규모는 공개되지 않았지만 증권업계에서는 10조원에 달하는 대규모 투자가 이뤄질 것으로 보고 있다.
평택에 도입하는 EUV 노광 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원으로 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 기존 공정으로는 할 수 없는 초미세 회로 구현이 가능하다. 고성능·저전력 반도체를 만드는 데 필수적인 기술이다.
삼성전자는 차세대 기술인 EUV를 통한 기술력 싸움으로 업계 1위 대만의 TSMC와 격차를 좁히면서 시스템 반도체 1위 달성을 위한 초석을 다지겠다는 각오다.
/황준성기자 yayajoon@kyeongin.com
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